鍍膜設(shè)備_CCZK-SFL連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線是該公司開發(fā)的新型多功能鍍膜設(shè)備。它瞄準(zhǔn)了現(xiàn)有磁控鍍膜設(shè)備所存在的工件效率不高，加工適應(yīng)范圍不廣等問題，經(jīng)充分考慮而成，設(shè)備設(shè)計起點高，結(jié)構(gòu)先進(jìn)、合理，設(shè)計了一套可靠的大功率磁控靶與電阻蒸發(fā)相結(jié)合的蒸鍍裝置。
  電控系統(tǒng)采用先進(jìn)的可編程控制器，配以優(yōu)質(zhì)的電器元件、執(zhí)行元件，確保各控制動作靈敏、可靠。設(shè)備總體布局緊湊、真空系統(tǒng)選配合理、抽速大、膜層均勻、附著力強、工作穩(wěn)定、工藝參數(shù)調(diào)整容易，鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量高。
  鍍膜設(shè)備_CCZK-SFL連續(xù)磁控鍍膜設(shè)備主要用于各種金屬、非金屬工件的表面裝飾性鍍膜加工，若再配上離子源等裝置，還可以進(jìn)行工具、刀具等強化處理加工，延長工具的使用壽命。本設(shè)備采用了多項新技術(shù)，確保了產(chǎn)品的先進(jìn)性。
  1、電阻蒸發(fā)與磁控濺射可靠結(jié)合，這樣同一臺設(shè)備不僅可蒸鍍常用低熔點金屬、非金屬材料，如在塑料上蒸鍍裝飾性鋁膜等;還可加工難熔、高硬度金屬，如鍍銅膜、鈦膜、超硬膜、合金膜等。
  2、采用新型高效磁控靶，靶濺射速率高，保證了膜層的均勻性，并且可生產(chǎn)出優(yōu)質(zhì)的鍍膜產(chǎn)品。
  3、采用可編程控制器對設(shè)備進(jìn)行自動控制，動作可靠，并且容易進(jìn)行工藝參數(shù)調(diào)整，設(shè)備適用性廣。
  4、采取一機雙門結(jié)構(gòu)和大抽速機組，確保了整機很高的工作效率。工件的表面裝飾性磁控鍍膜加工，是一種物理加工方法，無廢氣及腐蝕性等污染物排放，不污染環(huán)境。
  鍍膜質(zhì)量已在一定程度上達(dá)到傳統(tǒng)化學(xué)電鍍的鍍膜質(zhì)量，并將逐步完全取代之。這樣，可有效地大幅減少環(huán)境污染，保護(hù)生態(tài)環(huán)境，促進(jìn)國家資源的可持續(xù)利用。

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